Dusty Plasmas
Physics, Chemistry, and Technological Impact in Plasma Processing

André Bouchoule (Edited by), A Bouchoule (Author)

9780471973867, Wiley

Hardback, published 23 July 1999

424 pages
23.6 x 16 x 2.9 cm, 0.765 kg

"This book... will surely achieve great success. This book is recommended." (Plasma Physics Control Fusion, Vol 42, 2000)

Plasmen, die Staubpartikel enthalten, werden in der Werkstoffverarbeitung seit einigen Jahren verstärkt eingesetzt; so beim Wachstum dünner Filme, beim Ätzen und bei der Oberflächenbehandlung. Das vorliegende Werk ist das erste, das sich ausschließlich diesem Thema widmet. Ausgehend von den physikalischen Grundlagen der Plasmaentstehung in verschiedenen Quellen werden die Eigenschaften der Medien diskutiert; der letzte Teil geht auf die wichtigsten Anwendungsfelder ein. (06/99)

Physics and Modelling of Dusty Plasmas (J.-P. Boeuf & C. Punset).

Sources and Growth of Particles (J. Perrin).

Diagnostics of a Dusty Plasma (L. Boufendi, et al. ).

Technological Impacts of Dusty Plasmas (A. Bouchoule.

Indexes.

Subject Areas: Electronics & communications engineering [TJ]